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產(chǎn)品展示
產(chǎn)品分類
PRODUCT激光粒度儀
噴霧粒度儀
x射線衍射儀
x射線熒光光譜儀
納米粒度電位儀
在線粒度分析儀
納米顆粒跟蹤分析儀
熔樣機
微量熱儀
顆粒圖像分析儀
多檢測器凝膠色譜系統(tǒng)
其它工業(yè)過程控制
分子相互作用儀
推薦展示
馬爾文帕納科臺式XRF能譜儀一體機Epsilon 1 是一款集成型能量色散型 XRF 分析器,其包括光譜儀、內(nèi)置計算機、觸摸屏和分析軟件。 Epsilon 1 采用激發(fā)和檢測技術(shù)的新成果,是低成本小型...
馬爾文帕納科納米粒度電位儀Zetasizer Ultra 是用于測量顆粒與分子大小、顆粒電荷和顆粒濃度的系統(tǒng),在結(jié)合了 Zetasizer Pro 和 Lab 所有特性和優(yōu)點的基礎(chǔ)上,增加了多角度動態(tài)...
Zetasizer Pro馬爾文帕納科納米粒度電位儀是一款功能強大、用途廣泛的常規(guī)實驗室測量解決方案,可測量顆粒粒度、分子大小、電泳遷移率、Zeta 電位和分子量。 與以往型號相比,其粒度測量速度超過...
納米粒度儀即使作為入門級納米粒度及Zeta電位分析儀,Zetasizer Lab 的功能也不容小覷。 馬爾文帕納科納米粒度電位儀Zetasizer Lab 采用經(jīng)典動態(tài)光散射(90°),包含...
公司簡介
使用我們的技術(shù)可以測量顆粒粒度、形狀和濃度、化學名稱、Zeta電位、蛋白質(zhì)電荷、分子量、質(zhì)量和構(gòu)象、分子間相互作用和穩(wěn)定性、元素濃度、晶體結(jié)構(gòu),元素及物相等參數(shù)。這些信息對于預測產(chǎn)品在使用過程中的表現(xiàn)、優(yōu)化其性能,從而實現(xiàn)高效制造至關(guān)重要。作為思百吉集團成員,馬爾文帕納科(中國)共有8個辦事處,總部位于上海,其他辦事處包括北京、廣州、武漢、沈陽、西安、深圳和成都。上海建有1600多平方米的粒度,形貌,X射線,GPC等設(shè)備的專業(yè)實驗室,完善的實驗室設(shè)備可以提供客戶售前測樣及其售后培訓的配套服務(wù)與優(yōu)...
News
除了化學性之外,金屬粉末的物理特性還決定這增材制造的性能,包括粉末的整體特性和單個金屬顆粒的特性。關(guān)鍵的整體特性是指堆積密度和流動性。堆積密度和流動性受顆粒粒度和形狀等形態(tài)特性的影響。本文將介紹顆粒粒度顆粒大小與形狀與粉末關(guān)鍵特性的關(guān)系,及其測量手段。01丨顆粒形狀和粉末流動性的關(guān)系金屬粉末關(guān)鍵的整體特性是堆積密度和流動性。堆積一致可提供高密度粉末,確保生產(chǎn)的組件缺陷少、質(zhì)量一致。另一方面,流動性與工藝效率有著更密切的聯(lián)系。影響流動性的顆粒特性包括剛度、孔隙度、表面織構(gòu)、密度...
納米顆粒跟蹤分析儀是一種基于光散射和布朗運動原理,用于檢測和分析液體懸浮液中納米顆粒粒度分布、濃度及zeta電位的先進儀器。是利用納米顆粒在懸濁液中受到周邊溶液分子的撞擊而做無規(guī)則的布朗運動的特性。儀器通過一束能量集中的激光照亮溶液中的顆粒,并通過光學顯微鏡收集納米顆粒的散射光信號,觀察并跟蹤其布朗運動軌跡。通過對這些軌跡進行分析,利用二維Stokes-Einstein方程可以計算出顆粒的流體力學半徑,進而得到粒度分布、濃度等信息。納米顆粒跟蹤分析儀的技術(shù)性能:1、高靈敏度低...
x射線熒光光譜儀是一種快速的、非破壞式的物質(zhì)測量方法。其基本原理是利用高能量X射線或伽瑪射線轟擊材料時激發(fā)出次級X射線,即X射線熒光。當這些高能射線與樣品中的原子相互作用時,會將原子內(nèi)層的電子擊出,導致外層電子躍遷到內(nèi)層。當外層電子返回基態(tài)時,會釋放出特征X射線,這些特征X射線的能量或波長與元素的種類有關(guān)。通過檢測這些特征X射線,可以確定樣品中存在的元素種類及其含量。x射線熒光光譜儀的維護與保養(yǎng)措施:一、日常清潔表面清潔作用:保持儀器外觀整潔,防止灰塵等雜質(zhì)影響儀器散熱和外部...
激光噴霧粒度儀是一種重要的粒度分析儀器,其基于激光散射原理進行工作。當一束激光照射到噴霧中的顆粒時,顆粒會對激光產(chǎn)生散射。散射光的強度和角度與顆粒的大小、形狀、折射率等因素有關(guān)。通過測量不同角度上的散射光強度,可以得到顆粒的粒度分布信息。這一原理依賴于米氏散射理論,即光線通過含有顆粒的不均勻介質(zhì)時,與顆粒產(chǎn)生相互作用,發(fā)生吸收、反射、折射、透射和衍射等現(xiàn)象,使得光線偏離原先的光路。激光噴霧粒度儀的操作細節(jié)主要包括以下幾個方面:一、測試前準備儀器檢查:確認儀器外觀無損壞,各部件...
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